技术指标：

1.含导入、样品分析、真空、离子溅射、俄歇、仪器控制及数据处理系统；

2.分析腔室真空度≤5x10^-10 Torr；

3.单色化Al Kα X射线源；Mg/Al双阳极X射线源，单源功率300W；

4.180°半球能量分析器，成像模式可提供元素成像及化学态成像，可在高放大倍率下对微米级别分析点进行定位；

5.能量分辨率：Ag 3d5/2分辨率≤0.5eV；可进行常规束斑高质量获谱，束斑≥400μm：Ag 3d5/2 分辨率优于0.6eV时，计数率强度≥400kcps；可对材料的均匀性进行微区分析，最小获谱束斑≤10μm；

6.俄歇电子探针空间分辨率：< 100 nm，俄歇信噪比> 700:1（铜标准品）LMM，能量分辨率：< 0.4% （SiO₂标样信号）。

7.自动五轴样品台，X：±25 mm  Y：±25mm  Z：20 mm；旋转：±180° ；倾斜：0°~90° 用于角分辨分析。

应用领域：

用于分析无机化合物、合金、半导体、聚合物、元素、催化剂、陶瓷、生物材料、有机物等。